480. ASML如何获得EUV光刻技术

这篇文章概述了极紫外光刻 (EUV) 技术的发展历史，EUV技术对维持摩尔定律至关重要，因为它能制造越来越小的晶体管。它详细介绍了半导体光刻技术的工作原理，以及在EUV出现之前，研究人员探索过的其他替代技术，如电子束光刻和X射线光刻。文章重点指出，尽管美国的DARPA、贝尔实验室、IBM和国家实验室投入了数十亿美元进行了开创性的EUV研究，但最终却是荷兰的ASML公司成功地将其商业化，并成为了唯一的EUV工具制造商。这主要是因为一家由美国公司组成的EUV-LLC联盟最终允许ASML加入，从而将这项技术转移给了这家欧洲公司。内容来源：https://www.factorysettings.org/p/how-asml-got-euv-lithography