【零碳未來】EP193：常溫除氫技術現場直擊，守護氫能與半導體安全新未來 ft. 鼎佳能源股份有限公司 負責人閻明宇、副總經理張旭霖、商務發展協理 林錦星、資深專員 董純綺

從真實設備出發，認識「氫」在產業與安全上的關鍵課題 ─氫在半導體等先進製程是關鍵氣體，但實際被利用僅約一成；大量剩餘若外洩，4%～75%濃度即可被極微小能量點燃，形成工安高風險。密閉空間、儲存區尤需監測與主動消除。氫分子最小、易滲漏、比空氣輕而上飄，在室內天花板處累積最危險；一記鑰匙落地的火花，就可能成為引爆源。安全治理的第一要務，是「避免累積」而非「事後滅火」。鼎佳能源提出DHC（除氫氣）解方：在常溫、無外加電力條件下，利用觸媒讓氫與氧緩和反應為水蒸氣，持續把濃度壓低至安全範圍，避免進入燃爆區間；關鍵在於「能量緩釋、不可累積」。在氫能發展上，面對社區對加氫站的疑慮，DHC能整合於機櫃與儲區，將微量洩漏「邊生邊除」，大幅降低室內累積與點燃風險，提升站體與周邊居民的安全感。而技術門檻降、專業門檻在：常溫、免通電的原創設計，擴大了半導體、能源、化工等場域的布建彈性，讓回收與安全治理成為淨零鏈上的「務實拼圖」。下一集我們將走進產線端，深入看頂加能源如何把「除氫」與「回收」融入科技業製程，兼顧良率、能耗與安全。________________ 企劃 | 孫聖峰製作 | 孫聖峰________________