EPISODE · Sep 9, 2026 · 0 MIN
蘭ASML、米インテルなど3社と提携 「12インチフォトマスク」製造技術で連携加速
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「蘭ASML、米インテルなど3社と提携 「12インチフォトマスク」製造技術で連携加速」 オランダの半導体製造装置最大手、ASMLは8日、米インテル、韓国サムスン電子、台湾のTSMCとそれぞれ戦略的協力を推進することになったと発表した。各社との提携により次世代露光技術「High-NA EUV（高開口数極端紫外線露光技術）」の実用化と12インチフォトマスクへの移行を加速させる。
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